泰勒霍普森輪廓儀TAYLOR

泰勒霍普森輪廓儀CCI MP-HS

無論測量的是何種元件，無論對分析速度的要求有多高，我們創(chuàng)新的CCI MP-HS非接觸式光學(xué)輪廓儀都能為您提供精密的3D表面測量結(jié)果。 一百萬高速相機與1/10埃垂直分辨率相結(jié)合，無論是測量非常粗糙的表面，還是測量極其光滑的表面，都能獲得令人不可思議的詳細分析。

CCI MP-HS極大地擴展了分析能力，同時又不至于讓分析程序變得更復(fù)雜。 您可以測量各種各樣的元件和表面，不需要進行復(fù)雜的測量模式切換，也不會給中間透鏡的校準增加額外的負擔(dān)。 通過標準化的方法、程序和報告，CCI MP-HS可輕松地整合到您的質(zhì)量管理系統(tǒng)中。

1048 x 1048像素陣列，視場廣，高分辨率

高級X、Y、Z拼接，擴展量程

RMS重復(fù)精度<0.2 埃，階躍高度重復(fù)精度<0.1%

整合抗振，優(yōu)化抗噪性能

多語言版本的Windows，64位軟件

泰勒霍普森輪廓儀CCI MP

泰勒霍普森輪廓儀CCI MP是一種高級的測量干涉儀（非接觸式3D輪廓儀）。 它采用新型關(guān)聯(lián)算法，來查找由我們的精密光學(xué)掃描裝置產(chǎn)生的干涉圖的相干峰和相位。

CCI MP對于很多需要進行高精度3D輪廓分析的應(yīng)用非常有用。 轉(zhuǎn)臺上可以同步裝配各種各樣的標的物，因而可測量多種類型的表面。 全自動的工作臺和自動測量程序進一步增強了測量的靈活性。

CCI MP非接觸式3D輪廓儀的一個關(guān)鍵優(yōu)勢就是功能多、用途廣。 反射率為0.3%至100%的拋光表面、粗糙表面、曲面、平面或臺階面，都能使用一種算法進行測量，不需要為不同的表面改變模式，也不用擔(dān)心會選擇錯誤的模式。 可測量的材料類型包括： 玻璃、液體墨水、光刻膠、金屬、聚合物和糊劑。

1048 x 1048像素陣列，視場廣，高分辨率

經(jīng)過改良的新型X、Y、Z拼接，量程多達100毫米

RMS重復(fù)精度<0.2埃，階躍高度重復(fù)精度<0.1%

全量程埃級分辨率

多語言版本的Windows 7，64位軟件